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128层nand工艺 性能高于三星,美光!国外逆向机构芯片级拆解长江存储128层Nand
发布时间 : 2025-04-08
作者 : 小编
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性能高于三星、美光!国外逆向机构芯片级拆解长江存储128层Nand

近期,国外著名逆向分析机构techinisights 对阿斯加特(Asgard) PCIe4.0 NVMe1.4 AN4 1TB SSD进行了拆解,并对Nand存储芯片进行了芯片级拆解分析及显微拍照。

阿斯加特(Asgard)的SSD采用了紫光的3DNAND颗粒。根据不同的SSD产品,YMTC 128L 3D NAND闪存器件的封装标记是不同的,例如,YMN09TC1B1HC6C(日期代码:2021 9W)或POWEV PYT02TV4IA1-X4PWA(日期代码:2021 31W)。

图1 显示封装标记

图2 显示NAND芯片标记(CDT1B)

图3显示YMTC 512 Gb 128L Xtacking 2.0 3D TLC NAND芯片的CMOS芯片标记(CDT1A或CDT1B)。

作为参考,YMTC 64L Xtacking 1.0 TLC 芯片对于 NAND 芯片 (Y01-08 BCT1B) 和 CMOS 外围芯片 (Y01A08 BCT1B) 的芯片标记略有不同。

YMTC 128L Xtacking 裸片

三星176L V-NAND和SK海力士176L 4D PUC NAND SSD尚未在商用市场上出现,这似乎很有意义。YMTC 512Gb 128L Xtacking 2.0 TLC 芯片尺寸为 60.42 平方毫米。位密度增加到 8.48 Gb/平方毫米,比 Xtacking 1.0 芯片 (256Gb) 高 92%。由于长江存储Xtacking混合键合技术使用两片晶圆来集成3D NAND器件,因此我们可以找到两个die,一个用于NAND阵列芯片,另一个用于CMOS外围芯片。

图 4. YMTC 128L Xtacking 2.0 NAND Die 平面图

图 5. YMTC 128L Xtacking 2.0 Peripheral CMOS Die Floorplan

图4 显示了长江存储128L Xtacking 2.0芯片的NAND芯片布局图,图5显示了CMOS外围芯片布局图。Xtacking 架构旨在让长江存储在最大化其内存阵列密度的同时获得超快 I/O,例如 SSD 的读取速度为 7500 MB/s,写入速度为 5500 MB/s。该芯片采用四平面设计,所有 CMOS 外围电路(例如页面缓冲器、列解码器、电荷泵、全局数据路径和电压发生器/选择器)都放置在 3D NAND 单元阵列芯片下方的逻辑芯片上。

YMTC 128L Xtacking 2.0 规格和单元结构

YMTC 128L Xtacking 2.0单元结构由两个层板组成,通过层板接口缓冲层连接,与KIOXIA 112L BiCS 3D NAND结构的工艺相同。单元尺寸、CSL间距和9孔VC布局与以前的64L Xtacking 1.0单元保持相同的设计和尺寸(水平/垂直WL和BL间距)。门的总数为141(141T),包括选择器和用于TLC操作的虚拟WLs。

图6显示了YMTC三维NAND单元在WL方向的结构,以及32L(T-CAT,39T)、64L(Xtacking 1.0,73T)和128L(Xtacking 2.0,141T)的总门数注释。

上层有72个tungsten gates,而下层由69个门组成。包括BEOL Al、NAND裸片和外围逻辑芯片在内的金属层总数为10,这意味着与64L Xtacking 1.0工艺集成相比,外围逻辑芯片中增加了两个铜金属层。通道VC孔的高度增加了一倍,为8.49微米。

Techinsghts 认为长江存储的128层工艺在容量、位密度和I/O速度方面实现了行业领先的新标准。

与三星(V-NAND)、美光(CTF CuA)和SK hynix(4D PUC)的现有128L 512Gb 3D TLC NAND产品相比,裸片尺寸更小,这使得它的比特密度最高。四板芯片平面图和两层阵列结构与美光和SK hynix相同,但每串选择器和虚拟WL的数量为13个,比美光和SK hynix 小(两者均为147T)。由于采用Xtacking混合键合方法,使用的金属层数远高于其他产品表2显示了128L 512Gb 3D TLC NAND产品的比较,包括刚刚发布的YMTC 128L Xtacking 2.0 3D NAND。

SK海力士:全球首次成功研发128层4D Nand闪存

(观察者网讯)

据韩国《中央日报》6月27日报道,SK海力士宣布,该公司已经在全世界率先成功研发出128层4D Nand闪存芯片,将从今年下半年(7月~12月)开始投入量产。新产品比以往96层4D Nand芯片的生产效率提高了40%。

据SK hynix透露,该产品是业界最尖端的128层堆栈4D NAND,适用超均一垂直植入技术、高信赖多层薄膜构成技术、超高速低电力线路设计等技术。同时,该产品也是用TLC存储方式打造的NAND中,首次达到1TB容量的产品。

NAND闪存是一种比硬盘驱动器更好的存储设备,在不超过4GB的低容量应用中表现得尤为明显。随着人们持续追求功耗更低、重量更轻和性能更佳的产品,NAND被证明极具吸引力。NAND闪存是一种非易失性存储技术,即断电后仍能保存数据。它的发展目标就是降低每比特存储成本、提高存储容量。

6月26日,SK海力士宣布成功开发出“128层1Tb的TLC(Triple Level Cell)4D Nand闪存”,即将投入量产。距离该公司在去年10月开发出96层4D Nand闪存芯片过了8个月时间。据悉,最近DRAM和Nand闪存等存储芯片的价格不断下降,SK海力士今年第一季度已经出现亏损,现在似乎打算在Nand闪存领域寻找新的突破口。

据报道,相比传统的3D Nand闪存工程,4D Nand闪存解决了芯片设计过程中最为困扰的面积问题,大大提高了生产效率。SK海力士表示,“新产品使用同样的4D平台,通过对工程进行最佳优化,在比96层产品增加了32层储存单元的情况下,还将全部的工程程序减少了5%”。

SK海力士副总经理吴钟勋(音)表示,128层4D NAND将确保NAND项目的根本竞争力。该产品实现业界最多层堆栈、最高容量,将及时提供各种解决方案。

SK海力士计划从今年下半年开始正式开售128层4D闪存芯片,并接连推出各种产品解决方案。SK海力士还计划积极对云数据中心使用的企业级固态硬盘(SSD)、需要大容量存储芯片的5G移动通信智能手机市场展开攻略。

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