形势严峻:被美国打压,国产NAND芯片原地踏步,份额仅5%
近日,知名机构TrendForce集邦咨询,发布了2024年一季度全球NAND FLASH闪存市场报告。
数据显示,一季度全球NAND营收环比增长28.1%,达147.1亿美元。原因就是因为AI发展,以及PC、手机开始回暖,所以NAND需求增长了,导致整个存储芯片市场是价、量齐升。
而从具体的排名来看,三星、SK海力士、铠侠、美光、西部数据这5大巨头排名前五,没什么变化,这5大巨头合计拿下了94.6%的份额。
也就是说留给其它小厂商的市场,其实只有5.4%左右,这里面包括中国大陆、台湾等一些小NAND Flash闪存厂商。
看到这里,估计很多知道整个NAND闪存市场的网友,肯定是一片叹息,因为被美国打压之后,国产NAND闪存,几年了依然是原地踏步,没能崛起进入前五名,真是徒呼奈何啊。
我所说的国产NAND闪存厂商,指的就是长江存储,这家成立于2016年的国产存储芯片厂商,表现是非常猛的。
2016年才成立,2017年就量产32层堆叠的3D NAND,然后在2018年发明了晶栈技术,也叫做Xtacking。
有了这个技术之后,长江存储就真的牛了,进入64层堆叠存储技术之后,直接跳过96层,迈入128层,和三星、SK海力士、美光等巨头的技术差距,越来越小。
到了2022年下半年,长江存储更是成为全球第一家量产232层3D NAND闪存的厂商,比美光、三星等还领先。232层存储,存储密度更高,成本更低,同时速度会更快。
而按照正常的技术路线来说,谁最先掌握最先进的技术,那么就会利用这个技术,以及利用时间窗口,快速的扩大市场优势。
如果一切正常,在232层存储推出后,长江存储会迅速扩产,提高产能,向市场铺货,然后提升市场份额,和三星、SK海力士、美光等竞争。
不曾想,看到中国存储芯片这么先进,美国坐不住了,开始对长江存储进行打压,将其列入实体清单,对先进的设备进行封禁。
然后一些美国的半导体设备厂商,取消了订单,甚至连已经下单的先进机器也不发货了,还撤回了服务团队。
于是长江存储先进产能扩产计划没能顺利实施,当然232层的技术优势,也没能好好利用,毕竟买不到设备,没法扩产,再有技术又能怎么样呢?
而在长江存储被制裁的情况之下,三星、美光、SK海力士等迅速追了上来,并且技术不断进步,如今在堆叠技术上,已经超过了长江存储了,让人真是愤怒。
可见,依托于国外设备/技术的突破,有时候就宛如空中楼阁,对方一卡就废了,还得国产设备/技术顶上来,解决供应链的突破,才是真突破啊,你觉得呢?
性能高于三星、美光!国外逆向机构芯片级拆解长江存储128层Nand
近期,国外著名逆向分析机构techinisights 对阿斯加特(Asgard) PCIe4.0 NVMe1.4 AN4 1TB SSD进行了拆解,并对Nand存储芯片进行了芯片级拆解分析及显微拍照。
阿斯加特(Asgard)的SSD采用了紫光的3DNAND颗粒。根据不同的SSD产品,YMTC 128L 3D NAND闪存器件的封装标记是不同的,例如,YMN09TC1B1HC6C(日期代码:2021 9W)或POWEV PYT02TV4IA1-X4PWA(日期代码:2021 31W)。
图1 显示封装标记
图2 显示NAND芯片标记(CDT1B)
图3显示YMTC 512 Gb 128L Xtacking 2.0 3D TLC NAND芯片的CMOS芯片标记(CDT1A或CDT1B)。
作为参考,YMTC 64L Xtacking 1.0 TLC 芯片对于 NAND 芯片 (Y01-08 BCT1B) 和 CMOS 外围芯片 (Y01A08 BCT1B) 的芯片标记略有不同。
YMTC 128L Xtacking 裸片
三星176L V-NAND和SK海力士176L 4D PUC NAND SSD尚未在商用市场上出现,这似乎很有意义。YMTC 512Gb 128L Xtacking 2.0 TLC 芯片尺寸为 60.42 平方毫米。位密度增加到 8.48 Gb/平方毫米,比 Xtacking 1.0 芯片 (256Gb) 高 92%。由于长江存储Xtacking混合键合技术使用两片晶圆来集成3D NAND器件,因此我们可以找到两个die,一个用于NAND阵列芯片,另一个用于CMOS外围芯片。
图 4. YMTC 128L Xtacking 2.0 NAND Die 平面图
图 5. YMTC 128L Xtacking 2.0 Peripheral CMOS Die Floorplan
图4 显示了长江存储128L Xtacking 2.0芯片的NAND芯片布局图,图5显示了CMOS外围芯片布局图。Xtacking 架构旨在让长江存储在最大化其内存阵列密度的同时获得超快 I/O,例如 SSD 的读取速度为 7500 MB/s,写入速度为 5500 MB/s。该芯片采用四平面设计,所有 CMOS 外围电路(例如页面缓冲器、列解码器、电荷泵、全局数据路径和电压发生器/选择器)都放置在 3D NAND 单元阵列芯片下方的逻辑芯片上。
YMTC 128L Xtacking 2.0 规格和单元结构
YMTC 128L Xtacking 2.0单元结构由两个层板组成,通过层板接口缓冲层连接,与KIOXIA 112L BiCS 3D NAND结构的工艺相同。单元尺寸、CSL间距和9孔VC布局与以前的64L Xtacking 1.0单元保持相同的设计和尺寸(水平/垂直WL和BL间距)。门的总数为141(141T),包括选择器和用于TLC操作的虚拟WLs。
图6显示了YMTC三维NAND单元在WL方向的结构,以及32L(T-CAT,39T)、64L(Xtacking 1.0,73T)和128L(Xtacking 2.0,141T)的总门数注释。
上层有72个tungsten gates,而下层由69个门组成。包括BEOL Al、NAND裸片和外围逻辑芯片在内的金属层总数为10,这意味着与64L Xtacking 1.0工艺集成相比,外围逻辑芯片中增加了两个铜金属层。通道VC孔的高度增加了一倍,为8.49微米。
Techinsghts 认为长江存储的128层工艺在容量、位密度和I/O速度方面实现了行业领先的新标准。
与三星(V-NAND)、美光(CTF CuA)和SK hynix(4D PUC)的现有128L 512Gb 3D TLC NAND产品相比,裸片尺寸更小,这使得它的比特密度最高。四板芯片平面图和两层阵列结构与美光和SK hynix相同,但每串选择器和虚拟WL的数量为13个,比美光和SK hynix 小(两者均为147T)。由于采用Xtacking混合键合方法,使用的金属层数远高于其他产品表2显示了128L 512Gb 3D TLC NAND产品的比较,包括刚刚发布的YMTC 128L Xtacking 2.0 3D NAND。
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