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micron 3d nand 美光推出232层3D NAND Flash
发布时间 : 2024-10-08
作者 : 小编
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美光推出232层3D NAND Flash

来源:内容由半导体行业观察(ID:icbank)综合自网络,谢谢。

近日,存储芯片大厂美光(Micron)推出业界首个232 层堆叠3D NAND Flash 快闪记忆体,计划用于各种产品包括固态硬盘,2022 年底左右开始量产。

232 层堆叠3D NAND Flash 快闪记忆体采用3DTLC 架构,原始容量为1Tb(128GB)。记忆体基于美光CuA 架构,并使用NAND 字符串堆叠技术,彼此顶部建立两个3D NAND 阵列。CuA 设计的232层堆叠3D NAND Flash 快闪记忆体大大减少美光1Tb3D TLC NAND Flash 尺寸,有望降低生产成本订出更有竞争力的定价,或增加利润。美光并没有宣布新 232 层堆栈的 3D NAND Flash快闪存储器的 I/O 速度或平面数量,但暗示与现有 3DNAND Flash 快闪存储器设备相比,新存储器提供更高性能,对采用 PCIe 5.0 界面的下一代 SSD 特别有用。美光还强调 232 层堆栈 3D NAND Flash 快闪存储器比上一代产品更节省功耗,更具节能优势。该公司围绕业内领先的托管型 NAND 存储、以及数据中心 / 客户端 SSD 产品所需的技术进行了优化研发,且内外部控制器组合一直是其垂直产品集成的一个重要组成部分。

美光称,与上一代工艺节点相比,新一代 232 层 3D TLC NAND 具有更低的功耗。此外美光长期专注于移动应用,并与下游设备制造商保持着良好的合作伙伴关系。 最后,鉴于美光计划在 2022 下半年开启 232 层 3D TLC NAND 的生产,预计各类终端产品(比如 SSD)也会在 2023 年陆续上市。

美光推行芯片远期定价协议,10名客户已签约

美光科技12日宣布为旗下芯片推行名为“远期定价协议”的新机制,希望能解决让半导体产业多年来苦恼的价格波动问题,目前已有 10 名大客户签约,协议为期至少三年,估计一年可带来超过 5 亿美元收入。美光商务长 Sumit Sadana 在旧金山举办的投资者日上宣布此消息,但强调现阶段仍是“试验”性质,并且拒绝透露可能有多少现有的长期合约客户转移到新机制。Sadana 说,长约客户以采购量而非价格为基准,但远期价格协议把规模和价格都考虑进去了。针对合约是否可能强制执行的问题,他坦言,议约两方总是对价格有不同看法。他并表示,美光不打算用降低毛利率的方式推动远期定价协议。“过程中难免有起伏,但最终带来的好处,将超越达成此协议所面临的风险。”针对营运展望,美光预估长期营收将交出偏高的个位数增幅。DRAM 和 NAND 存储器芯片在未来几年都将有强劲的成长,主要由汽车、数据中心、工业终端市场日益增加的需求带动,这将降低美光对个人计算机 (PC) 和智能手机业务的依赖。美光执行长 Sanjay Mehrotra 表示,接下来到2025 年之间,DRAM 业务的年成长率预估介于 14% 至19%,NAND 的年成长率更将超过 20%。Mehrotra 预估,整体存储器产业的规模将能在 2030 年之前达到 3300 亿美元,较 2021 年的1610 亿美元成长逾一倍。存储器芯片占芯片业比重,已经从本世纪初的 10% 上升到 30%。

*免责声明:本文由作者原创。文章内容系作者个人观点,半导体行业观察转载仅为了传达一种不同的观点,不代表半导体行业观察对该观点赞同或支持,如果有任何异议,欢迎联系半导体行业观察。

今天是《半导体行业观察》为您分享的第3040内容,欢迎关注。

晶圆|集成电路|设备|汽车芯片|存储|台积电|AI|封装

3D NAND 战况白热化,Intel 与 Micron 揭露自家技术预览

2016 的 SSD 技术即将迎来重大变化。

先前 Toshiba 与 Sandisk 公开了技术合作的 48 层 BiCS 3D NAND Flash 设计,随后另一组有着深厚合作关系的人马 Intel 与 Micron 也透漏了自家的 3D NAND 设计的更多资料。

其实去年底 Intel 就已经粗浅的透露了一部分的参数,包含了会具有 32 层堆叠、可提供 MLC 颗粒 256Gb(32GB)、TLC 384Gb(48GB)的容量等,现在他们透露了更多。

首先,新的 NAND Flash 的设计上将会具有 4 个 Plane,Plane 是整个 NAND Flash 体系中第二大的单位,仅次于 die;再下去则是我们所知道的 Block 与 Page 这些更基本的单位,设计 Plane 的用意是用来对 Block 进行划分,相异的 Plane 是可以同时进行动作的,若少了 Plane 设计,在 Die 内就一次就只能对一个 Page 进行读写而降低性能,而 Intel-Micron 使用了 4 planes 设计可以有效地增加吞吐量。

在耐久性的部分,Intel 与 Micron 公开资料显示,电荷的数量将可以回到过去平面式设计在 50 nm 左右的等级,而电荷的数量会将会影响储存单元的判断精确度以及控制难度,这也是为何在平面式 NAND FLASH 旧制程产品的 P/E Cycle 较高的因素。不过 Micron 方面,目前只承认会有 3,000 P/E 的表现,但 Micron 在消费级 NAND FLASH 已经维持这个数据长达数年,因此有可能只是 Micron 提供保守估计,实际上的表现可能可以来到 10,000 P/E Cycle 以上。

另外比较特别的是,Intel-Micron 的设计还是使用了传统的 Floating Gate,而不是 Samsung、Toshiba 所使用的 Charge Trap。他们表示,Floating Gate 的设计已经存在悠久,比起相对新的 CTF 特性更能能被很好的掌握,换句话说则是以 Intel-Micron 对 Floating Gate 技术的深入了解,做起来比较省钱。当然比起 CTF 技术可能有着更低的漏电流等好处可能也在考虑范围之内。

上市时程方面,目前 256 Gbit 的 MLC 样品,已经出货给特定的合作夥伴,预计今年的下半年度就可以进入量产。因此我们也许可以在明年就可以看到使用 Intel 与 Micron 3D NAND Flash 的 SSD 产品出现在商店货架上。

Intel-Micron Share Additional Details of Their 3D NAND

(本文由 VR-Zone授权转载)

延伸阅读:

Toshiba 与 Sandisk 携手开发,推出 48 层 3D NAND FLASH

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