存储器NAND-浅谈
NAND Flash存储器是Flash存储器的一种,属于非易失性存储器,其内部采用非线性宏单元模式,为固态大容量内存的实现提供了廉价有效的解决方案。NAND Flash存储器具有容量较大,改写速度快等优点,适用于大量数据的存储,因而在业界得到了越来越广泛的应用,如闪存盘、固态硬盘、eMMC、UFS等。
根据其不同的工艺技术,NAND已经从最早的SLC一路发展到如今的MLC、TLC、QLC和PLC。
NAND发展
按速度价格对比排序:SLC>MLC>TLC>QLC>PLC
按容量大小对比排序:PLC>QLC>TLC>MLC>SLC
目前主流的应用解决方案为TLC和QLC。SLC和MLC主要针对军工,企业级等应用,有着高速写入,低出错率,长耐久度特性。
除此,NAND Flash根据对应不同的空间结构来看,可分为2D结构和3D结构两大类:
NAND结构
下面是各大NAND Flash芯片生产厂商在3D NAND Flash产品的量产状况:
NAND品牌对比
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存储器市场NAND、DRAM此消彼长?
近期,韩国《京乡新闻》引用半导体业界消息表示,随着对人工智能服务器领域投资的扩大,对高带宽存储器(HBM)、DDR5等高附加值DRAM的需求不断增加。与之相反,NAND市场需求持续萎缩。
这一背景下,已经有存储厂商将减产重点落在NAND领域。
SK海力士在最新财报中表示,与DRAM库存去化速度相比,NAND闪存的去库存速度相较缓慢,因此决定扩大NAND产品的减产规模。
三星电子存储事业部执行副总裁Jaejune Kim在财报电话会议上提到,三星将延长减产行动,并对包括NAND闪存芯片在内的某些产品进行额外的产量调整。
当然,眼下的艰难不意味着NAND未来没有发展前景。长远来看,随着AI、大数据等技术发展,催生大容量存储产品需求,包括SSD在内的NAND Flash仍将大有可为。因此,存储大厂同样在不遗余力布局NAND Flash堆叠技术,以图未来。
目前NAND Flash已经突破200层堆叠大关,SK海力士已开始量产238层4D NAND闪存。未来存储厂商将持续发力更高层数NAND Flash,美光232层之后,计划推出2YY、3XX与4XX等更高层数产品;铠侠与西数也在积极探索300层以上、400层以上与500层以上的3D NAND技术;三星则计划2024年推出第九代3D NAND(有望达到280层),2025-2026年推出第十代3D NAND(有望达到430层),2030年前实现1000层NAND Flash。
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