Innodisk 发布 112 层 3D TLC 工业级固态硬盘:最大容量 8TB
IT之家 7 月 24 日消息 存储厂商 Innodisk 宜鼎国际 7 月 22 日宣布,推出了采用 112 层 3D TLC NAND 存储芯片的固态硬盘系列产品,最大容量可达 8TB。
该系列硬盘包含采用 SATA 标准的 3TG6-P、3TE7 系列,同时还有采用 PCIe Gen3x4 / Gen4x4 通道的产品,最高支持 NVMe 1.4 协议。官方表示,此前 96 层 NAND 芯片的产品最大容量只能做到 2TB,而最新的 112 层芯片可以使得存储容量更大,速度更快。
具体来看,采用 PCIe 4.0×4 通道的产品,顺序读写速度可达 7500/6700 MB/s(8CH)以及 3800/3000 MB/s(4CH)。Innodisk 这类硬盘针对边缘计算、深度学习、智能监控、医疗等用途开发,具备 ECC 纠错以及 LDPC 功能,提高数据安全性。此外,产品还具备 iDataGuard、iPowerGuard 技术,能够在意外断电下保护硬盘。
需要注意的是,Innodisk 新款 SSD 8TB 容量仅限采用 U.2 接口的产品,适用于服务器。M.2 2280 规格的产品,最大容量 4TB。
IT之家了解到,官方表示该系列工业级 SSD 将于 2021 年第三季度向全球发售。
三星高管透露将于2024年推出300层以上的V-NAND
8月份,SK海力士全球首家宣布了321层堆叠的NAND闪存,首次突破300层,但是要到2025年上半年才会量产。一直处于存储一哥位置的三星坐不住了,因为原本规划2024年量产的第9代V-NAND闪存只有280层左右,2025-2026年的第10代则突破到430层以上。
被反超显然是三星不能忍的。三星电子存储业务总裁李荣培(Jung-bae Lee)最新披露,第9代V-NAND进展顺利,将在明年初量产,基于双堆栈架构,达成业界最高堆叠层数。
Jung-Bae Lee 指出: "在即将到来的 10 纳米以下 DRAM 和 1,000 层垂直 V-NAND 时代,新的结构和材料创新至关重要。因此,我们正在为 DRAM 开发三维堆叠结构和新材料,同时为 V-NAND 增加层数、降低高度并最大限度地减少单元干扰。计划于 2024 年推出的第 9 款 V-NAND 将采用 11 纳米级的 DRAM。此外,博文还重申了对CXL内存模块(CMM)的承诺,CMM将支持下一代系统的可组合基础设施,特别是采用V-NAND的大容量固态硬盘。"
他没有披露具体的层数,但此前就有说法称,会提高到300层以上,能不能超过SK海力士的321层不好说,但至少在近期是新高。显然,三星给第9代闪存加码了。
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