闪存误码根源分析及测试（含方法工具）

Bit错误从Nand Flash物理机构上来说是不可避免的问题，Nand Flash受外界工作环境（如:温度、辐照等）和生产工艺、工作原理、存储材料本身的弊端等影响，总会在各种条件下产生错误。误码率是表明在一定条件下产生错误的比率，反映Nand Flash当前的可靠性状态。

产生误码的物理根源

Cell的本身是个浮栅（Floating Gate，以下缩写为FG）结构的MOS型晶体管，工作原理是通过对FG注入或者释放电荷改变存储单元的阈值电压来达到存储或释放数据的目的。Program“0”通过Control Gate施加电压将电荷注入FG、Erase的过程则是施压反向电压，通过隧道效应（以下简称FNT）将电荷拉出FG，隧道效应会因基板表面附近的单一氧化层能陷捕获或者泄露电子产生随机电信号噪音，这种噪音最终导致阈值电压发生偏移。

随着制程的进步，FG之间的半间距（HalfPitch）越来越小，从1995年的360纳米快速缩减到今天的16纳米，这种因制程进步而对CMOS进行不断压缩的工艺，会对Nand Flash的可靠性造成诸多方面的影响，例如，FG中存储的电荷数量减少，34纳米的FG中，大约存100个电子，电荷流失容限约为10个电子，而在19纳米，FG中大约只有10个电子，因此，每流失一个电子都会对阈值电压产生重要的影响。较近的距离也会让各个存储单元之间更容易产生影响，另外，FG在电压和电场的作用下会导致经时击穿（TDDB，与时间相关的电介质击穿）或者电介质老化，从而导致Bit发生错误。

Erase和Program的操作也会导致氧化层收集电荷，这样会影响到cell的阈值电压，当电荷脱井时，阈值漂移，Bit发生反转。

塑封工艺也是导致错误发生的隐患，Nand Flash采用的主要的塑封电路，塑封工艺会存在吸湿、分层、热传导、空洞等问题，因此，操作严格的工厂，在SMT之前都会预先对Nand Flash进行烘烤，目的就是避免芯片吸湿后受热导致芯片破裂或表面鼓泡，当然，芯片破裂是最严重的问题，即使表明没有破裂也会存在内部物理结构损坏的安全隐患。

误码产生的表现

Bit错误会在下面几种情况下产生：

1、擦写操作（P/ECycle）

2、读取干扰（ReadDisturb）；

3、编程干扰（ProgramDisturb）；

4、数据保持发生错误（DataRetention）。

读取/编程干扰主要是因为对目标Cell进行读写操作时对相邻Cell产生了影响（改变了临近Cell的阈值电压或电场），从而导致相邻Cell数据出现错误。

而数据保存错误则是由于氧化层带了越来越多的残留电荷或者由于漏电流引起cell阈值电压偏移所导致，详细解释请见下面Data Retention部分的介绍。

误码率的测试方法

误码率通常用原始误码率RBER（Raw Bit Error Rate）和不可纠错误码率UBER（Uncorrectable Bit Error Rate）来表达，RBER表示在未经ECC纠正之前的误码率，可以确切反应Nand Flash的初始可靠性状况；UBER则反应在一定长度（codeword）ECC之下的误码率，可以用于评估一定条件下需要使用的ECC强度，UBER的计算公式如下：

1、 写擦操作产生的误码可以通过RBER和UBER来测试，可以对NandFlash按“擦除>写入>对比”的顺序进行测试，通过原始误码率的变化可以判定Nand Flash真实的耐久度。

原始误码率（RBER）和不可纠错误码率(UBER)的具体测试如下：

NFA100-E可以通过简单的设定（如设定4组不同codeword长度的ECC做参考）来获取RBER和UBER的数据。

下图测试结果意思为：该Nand Flash（MLC）的原始误码率为：10^（-5.821），不可纠错的误码率为0（原因是做的P/E cycle太少），SSD一般会要求UBER要达到10^（-15），是否可以达到或者超过10^（-15）主要取决于ECC的能力和算法。

2、编程干扰（ProgramDisturb）

编程干扰一般是由于：Vpass过高、Vpass过低、电容性耦合失效以及过量写入导致。

假设 ，将“11”编程为“10”，对Lower page进行编程需要16V电压，最终，相邻的Cell受到的可能是19V的影响，为什么会出现这种情况呢？

Program实际上是采用增量脉冲编程（Incremental step pulse programming，以下简称ISPP）方式，因为每个Cell的状态不同，对于状态非常良好的cell来说，也许只要一次加压就可以完成Program过程，但对于状态不好的cell来说，可能需要增加电压来完成Program，增加的电压值将被分解为多个子步骤，每次增加一点点电压，然后用Vread判定是否达到目标电压，例如，Vread为20V，那么对“10”的upper page施压的电压最高不能超过19V（Vread>Vth），从正常需要的16V到19V假设每个step增加200mV，那么需要15次才能完成Program。如果以最坏的情况来看，这样的结果事实上是导致临近的cell受到19V影响，数据更容易出现错误，一些“坏”的cell会将邻居也带“坏”。

测试Program Disturb的方法就很简单了，只需要对指定Block进行基本的常规的Erase、Program和Read操作，NFA100-E就可以迅速得出结论。

3、数据保持错误（DataRetention）

Data Retention是有两种原因造成：

1.Data Retention的错误根源是FG的经时击穿TDDB（timedependent dielectric breakdown）导致了低场漏电流变的越来越大，漏电流的变大又导致Cell保存阈值电压转移能力的变弱，从而产生Data Retention的出错。

2.Data Retention的另一种原因就是前文所述的，Erase和Program的操作也会导致氧化层收集电荷，这样会影响到cell的阈值电压，当电荷脱井时，阈值漂移，Bit发生反转。

原理上讲，如果Cell的电压完全失去（低于0V），那么DataRetention错误最终结果是这个cell数据会变成“11”，既：“10”，“01”，“00”最终变成“11”。

Data Retention的测试方法可以参考JEDEC标准，使用NFA100-E可以提供两种测试方法，1、直接使用DataRetention界面按步骤进行测试（如下图示）；2、用Error Rate的测试方法，在室温下用NFA100-E对Nand Flash进行1000次P/E，然后写入一个伪随机数，将Nand Flash放入120°C温箱，34分13秒后取出，用NFA100-E Read Only模式验证Error Rate，依次做此类循环，没有Error Rate发生就表示数据可以保存一年。

4、读取干扰（ReadDisturb）

读取操作同样会导致相邻cell的错误，原因是读取操作是通过对选定的page施压0V电压，而对非选定page施压5V电压，通过cell的源极到漏极之间是否有电流导通来判断cell中是“0”还是“1”，如果有电流导通说明cell阈值电压低于所施加电压，数据为“1”，如果没有电流导通，说明cell阈值电压高于所施加电压，数据为“0”。

因此，读取的操作会造成未被选取的cell形成某种意义上的编程操作，导致其阈值电压向增高，从而导致bit翻转。

温度对误码率的影响

高温和低温对误码率的影响很大，根据本人测试，低温对误码率的影响要高于高温，下图为常温下（20°C）RBER为10^(-5.902)的MLC在-45°C条件的误码率为10^（-5.259）：

NAND Flash浮栅晶体管的结构、工作原理及其局限性

作为最为常见的存储芯片，NAND Flash已经被广泛采用，特别是在消费类电子产品当中，因此，在其存储密度不断提升的同时，成本也越来越敏感。由于Flash闪存的成本取决于其芯片面积，如果可以在同一区域存储更多数据，Flash将更具成本效益。NAND闪存主要有三种类型：Single Level Cell（SLC），Multi Level Cell（MLC）和Triple Level Cell（TLC）。顾名思义，TLC Flash在与MLC相同的区域中存储的数据更多，同理，MLC存储的数据多于SLC。另一种类型的NAND闪存称为3D NAND或V-NAND（垂直NAND），其通过在同一晶片上垂直堆叠多层存储器单元，这种类型的闪存实现了更大的密度。 浮栅晶体管 闪存将信息存储在由浮栅晶体管组成的存储单元中。为了更好地理解不同类型的NAND闪存，让我们来看看浮栅晶体管的结构、工作原理及其局限性。 浮栅晶体管或浮栅MOSFET（FGMOS）非常类似于常规MOSFET，区别在于它在栅极和沟道之间具有额外的电绝缘浮栅。由于浮栅是电隔离的，所以即使在去除电压之后，到达栅极的电子也会被捕获。这就是闪存非易失性的原理所在。与具有固定阈值电压的常规MOSFET不同，FGMOS的阈值电压取决于存储在浮栅中的电荷量，电荷越多，阈值电压越高。与常规MOSFET类似，当施加到控制栅极的电压高于阈值电压时，FGMOS开始导通。因此，通过测量其阈值电压并将其与固定电压电平进行比较来识别存储在FGMOS中的信息，被称为闪存中的读操作。 可以使用两种方法将电子放置在浮动栅极中：Fowler-Nordheim隧穿或热载流子注入。对于Fowler-Nordheim隧穿，在带负电的源极和带正电的控制栅极之间施加强电场。这使得来自源极的电子隧穿穿过薄氧化层并到达浮栅。隧穿所需的电压取决于隧道氧化层的厚度。利用热载流子注入，高电流通过沟道，为电子提供足够的能量以穿过氧化物层并到达浮动栅极。 通过在控制栅极上施加强负电压并在源极和漏极端子上施加强正电压，使用福勒 - 诺德海姆隧道效应可以从浮栅移除电子。这将导致被捕获的电子通过薄氧化层回到隧道。在闪存中，将电子放置在浮动栅极中被认为是编程/写入操作，去除电子被认为是擦除操作。 隧道工艺有一个主要缺点：它会逐渐损坏氧化层。这被称为闪存中的磨损。每次对单元进行编程或擦除时，一些电子都会卡在氧化层中，从而磨损氧化层。一旦氧化层达到不再能够在编程和擦除状态之间进行可靠性区分的点，则该单元被认为是坏的。由于读取操作不需要隧穿，因此它们不会将单元磨掉。这就是为什么闪存的寿命表示为它可以支持的编程/擦除（P / E）周期的数量。SLC闪存 在SLC闪存中，每个存储单元仅存储一位信息：逻辑0或逻辑1.单元的阈值电压与单个电压电平进行比较，如果电压高于电平，则该位被视为逻辑0。反之则为逻辑1。 由于只有两个级别，因此两个级别之间的电压裕度可能非常高。这使得读取单元格更容易，更快捷。原始误码率（RBER）也很低，因为由于较大的电压余量，在读取操作期间泄漏或干扰的影响较小。低RBER还减少了给定数据块所需的ECC位数。 大电压裕量的另一个优点是磨损的影响相对较小，因为微小的电荷泄漏具有相对较低的影响。每个逻辑电平的更宽分布有助于以更低的电压对单元进行编程或擦除，这进一步增加了单元的耐久性，进而增加了寿命，即P / E循环的数量。 同时也有一个缺点，就是与在相同芯片区域中存储更多数据的其他类型的Flash相比，每个单元的成本更高。SLC闪存通常用于对成本不敏感且需要高可靠性和耐用性的场合，例如需要大量P / E循环次数的工业和企业应用。MLC闪存 在MLC闪存中，每个存储器单元存储两位信息，即00,01,10和11，在这种情况下，阈值电压与三个电平进行比较（总共4个电压带）。 通过更多级别进行比较，读取操作需要更加精确，与SLC Flash相比，读取速度更慢。由于较低的电压余量，原始误码率（RBER）也相对较高，并且给定数据块需要更多的ECC比特。现在磨损的影响更为显着，因为与SLC闪存相比，任何电荷泄漏都会产生更大的相对影响，从而减少寿命（P / E循环次数）。 由于需要仔细编程以将电荷存储在每个逻辑电平所需的紧密窗口内，因此编程操作也要慢得多。其主要优点是每比特成本更低，比SLC闪存低2~4倍。MLC闪存通常用于成本更敏感的应用，例如消费电子或游戏系统，其性能、可靠性和耐用性不是那么关键，并且所需的P / E循环次数相对较低。企业级多单元（eMLC）闪存 MLC闪存的低可靠性和耐用性使它们不适合企业应用，而低成本是一个驱动因素。为了带来更低成本的优势，闪存制造商创建了一种优化级别的MLC闪存，具有更高的可靠性和耐用性，称为eMLC。eMLC中的数据密度通常会降低，从而提供更好的电压余量以提高可靠性。较慢的擦除和编程循环通常用于减少磨损的影响并提高耐用性。还有许多其他技术可以提高eMLC的可靠性和耐用性，这些技术因制造商而异。TLC闪存 在TLC Flash中，每个存储器单元存储3位信息。现在将阈值电压与7个电平（总共8个电压带）进行比较。与SLC Flash相比，TLC的读取操作需要高度精确且速度慢。原始误码率也很高，增加了对给定数据块的更多ECC位的需求。磨损的影响也被放大，大大减少了寿命（P / E循环次数）。编程操作也较慢，因为电压需要精确以将电荷存储在每个逻辑电平所需的窗口内。 TLC的优势在于每比特的最低成本，与SLC或MLC闪存相比要低得多。TLC闪存用于高成本敏感型应用，对P / E循环的需求较少，例如消费类应用。SLC，MLC，eMLC和TLC的比较 表1给出了假设类似光刻工艺的不同类型闪存的主要参数的比较。这些值仅表示比较性能，并且就特定存储器产品而言可能不准确。

表1：每种不同类型Flash的主要参数的比较。 * ECC位数取决于制程节点; 较小的制程节点需要更多的ECC位。 3D NAND Flash 上面讨论的所有不同的闪存都是二维的，意味着存储单元仅布置在芯片的XY平面中。使用2D闪存技术，在同一晶圆中实现更高密度的唯一方法是缩小制程工艺节点。其缺点是，对于较小的节点，NAND闪存中的错误更为频繁。另外，可以使用的最小制程工艺节点存在限制。 为了提高存储密度，制造商开发了3D NAND或V-NAND（垂直NAND）技术，该技术将Z平面中的存储单元堆叠在同一晶圆上。以这种方式构建有助于为相同的芯片区域实现高位密度。在3D NAND闪存中，存储器单元作为垂直串连接而不是2D NAND中的水平串。 第一批3D Flash产品有24层。随着该技术的进步，已经制造出32,48,64甚至96层3D闪存。3D闪存的优势在于同一区域中的存储单元数量明显更多。这也使制造商能够使用更大的制程工艺节点来制造更可靠的闪存。 3D Flash的另一个主要技术转变是使用电荷阱Flash而不是浮栅晶体管。除了用氮化硅膜代替浮栅之外，电荷阱在结构上类似于FGMOS。注意，由于大规模制造的困难，电荷阱在市场上没有被广泛使用。由于难以制造浮栅晶体管的垂直串以及电荷阱的其他固有优点，已经采用电荷阱技术用于3D闪存。 与FGMOS相比，基于电荷阱的存储器有许多优点。可以在较低电压下编程和擦除基于电荷阱的存储器，从而提高耐用性。由于捕获层（氮化物）是绝缘层，电荷不会泄漏，从而提高了可靠性。由于电荷不会从电荷阱的一侧流到另一侧，因此可以在同一阱层存储多于一位的电荷。赛普拉斯（前Spansion）在NOR闪存中有效地利用了这种功能，称为MirrorBit技术，将两位数据存储在一个类似于MLC闪存的单个存储单元中。未来的趋势 所有主要的闪存制造商都积极致力于开发不同的方法，以降低每比特闪存的成本，同时正在积极研究增加3D NAND Flash中垂直层的数量。虽然15nm似乎是目前NAND闪存中最小的成功节点，但Flash的光刻节点的缩小仍在继续。将MLC和TLC技术与3D NAND闪存相结合的方法也正在积极探索当中，许多制造商已经看到了成功的曙光。随着新技术的出现，我们可能很快就会看到存储单元可以存储一个字节的数据和垂直层，达到256层，甚至更高

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