NAND Flash浮栅晶体管的结构、工作原理及其局限性
作为最为常见的存储芯片,NAND Flash已经被广泛采用,特别是在消费类电子产品当中,因此,在其存储密度不断提升的同时,成本也越来越敏感。由于Flash闪存的成本取决于其芯片面积,如果可以在同一区域存储更多数据,Flash将更具成本效益。NAND闪存主要有三种类型:Single Level Cell(SLC),Multi Level Cell(MLC)和Triple Level Cell(TLC)。顾名思义,TLC Flash在与MLC相同的区域中存储的数据更多,同理,MLC存储的数据多于SLC。另一种类型的NAND闪存称为3D NAND或V-NAND(垂直NAND),其通过在同一晶片上垂直堆叠多层存储器单元,这种类型的闪存实现了更大的密度。 浮栅晶体管 闪存将信息存储在由浮栅晶体管组成的存储单元中。为了更好地理解不同类型的NAND闪存,让我们来看看浮栅晶体管的结构、工作原理及其局限性。 浮栅晶体管或浮栅MOSFET(FGMOS)非常类似于常规MOSFET,区别在于它在栅极和沟道之间具有额外的电绝缘浮栅。由于浮栅是电隔离的,所以即使在去除电压之后,到达栅极的电子也会被捕获。这就是闪存非易失性的原理所在。与具有固定阈值电压的常规MOSFET不同,FGMOS的阈值电压取决于存储在浮栅中的电荷量,电荷越多,阈值电压越高。与常规MOSFET类似,当施加到控制栅极的电压高于阈值电压时,FGMOS开始导通。因此,通过测量其阈值电压并将其与固定电压电平进行比较来识别存储在FGMOS中的信息,被称为闪存中的读操作。 可以使用两种方法将电子放置在浮动栅极中:Fowler-Nordheim隧穿或热载流子注入。对于Fowler-Nordheim隧穿,在带负电的源极和带正电的控制栅极之间施加强电场。这使得来自源极的电子隧穿穿过薄氧化层并到达浮栅。隧穿所需的电压取决于隧道氧化层的厚度。利用热载流子注入,高电流通过沟道,为电子提供足够的能量以穿过氧化物层并到达浮动栅极。 通过在控制栅极上施加强负电压并在源极和漏极端子上施加强正电压,使用福勒 - 诺德海姆隧道效应可以从浮栅移除电子。这将导致被捕获的电子通过薄氧化层回到隧道。在闪存中,将电子放置在浮动栅极中被认为是编程/写入操作,去除电子被认为是擦除操作。 隧道工艺有一个主要缺点:它会逐渐损坏氧化层。这被称为闪存中的磨损。每次对单元进行编程或擦除时,一些电子都会卡在氧化层中,从而磨损氧化层。一旦氧化层达到不再能够在编程和擦除状态之间进行可靠性区分的点,则该单元被认为是坏的。由于读取操作不需要隧穿,因此它们不会将单元磨掉。这就是为什么闪存的寿命表示为它可以支持的编程/擦除(P / E)周期的数量。SLC闪存 在SLC闪存中,每个存储单元仅存储一位信息:逻辑0或逻辑1.单元的阈值电压与单个电压电平进行比较,如果电压高于电平,则该位被视为逻辑0。反之则为逻辑1。 由于只有两个级别,因此两个级别之间的电压裕度可能非常高。这使得读取单元格更容易,更快捷。原始误码率(RBER)也很低,因为由于较大的电压余量,在读取操作期间泄漏或干扰的影响较小。低RBER还减少了给定数据块所需的ECC位数。 大电压裕量的另一个优点是磨损的影响相对较小,因为微小的电荷泄漏具有相对较低的影响。每个逻辑电平的更宽分布有助于以更低的电压对单元进行编程或擦除,这进一步增加了单元的耐久性,进而增加了寿命,即P / E循环的数量。 同时也有一个缺点,就是与在相同芯片区域中存储更多数据的其他类型的Flash相比,每个单元的成本更高。SLC闪存通常用于对成本不敏感且需要高可靠性和耐用性的场合,例如需要大量P / E循环次数的工业和企业应用。MLC闪存 在MLC闪存中,每个存储器单元存储两位信息,即00,01,10和11,在这种情况下,阈值电压与三个电平进行比较(总共4个电压带)。 通过更多级别进行比较,读取操作需要更加精确,与SLC Flash相比,读取速度更慢。由于较低的电压余量,原始误码率(RBER)也相对较高,并且给定数据块需要更多的ECC比特。现在磨损的影响更为显着,因为与SLC闪存相比,任何电荷泄漏都会产生更大的相对影响,从而减少寿命(P / E循环次数)。 由于需要仔细编程以将电荷存储在每个逻辑电平所需的紧密窗口内,因此编程操作也要慢得多。其主要优点是每比特成本更低,比SLC闪存低2~4倍。MLC闪存通常用于成本更敏感的应用,例如消费电子或游戏系统,其性能、可靠性和耐用性不是那么关键,并且所需的P / E循环次数相对较低。企业级多单元(eMLC)闪存 MLC闪存的低可靠性和耐用性使它们不适合企业应用,而低成本是一个驱动因素。为了带来更低成本的优势,闪存制造商创建了一种优化级别的MLC闪存,具有更高的可靠性和耐用性,称为eMLC。eMLC中的数据密度通常会降低,从而提供更好的电压余量以提高可靠性。较慢的擦除和编程循环通常用于减少磨损的影响并提高耐用性。还有许多其他技术可以提高eMLC的可靠性和耐用性,这些技术因制造商而异。TLC闪存 在TLC Flash中,每个存储器单元存储3位信息。现在将阈值电压与7个电平(总共8个电压带)进行比较。与SLC Flash相比,TLC的读取操作需要高度精确且速度慢。原始误码率也很高,增加了对给定数据块的更多ECC位的需求。磨损的影响也被放大,大大减少了寿命(P / E循环次数)。编程操作也较慢,因为电压需要精确以将电荷存储在每个逻辑电平所需的窗口内。 TLC的优势在于每比特的最低成本,与SLC或MLC闪存相比要低得多。TLC闪存用于高成本敏感型应用,对P / E循环的需求较少,例如消费类应用。SLC,MLC,eMLC和TLC的比较 表1给出了假设类似光刻工艺的不同类型闪存的主要参数的比较。这些值仅表示比较性能,并且就特定存储器产品而言可能不准确。
表1:每种不同类型Flash的主要参数的比较。 * ECC位数取决于制程节点; 较小的制程节点需要更多的ECC位。 3D NAND Flash 上面讨论的所有不同的闪存都是二维的,意味着存储单元仅布置在芯片的XY平面中。使用2D闪存技术,在同一晶圆中实现更高密度的唯一方法是缩小制程工艺节点。其缺点是,对于较小的节点,NAND闪存中的错误更为频繁。另外,可以使用的最小制程工艺节点存在限制。 为了提高存储密度,制造商开发了3D NAND或V-NAND(垂直NAND)技术,该技术将Z平面中的存储单元堆叠在同一晶圆上。以这种方式构建有助于为相同的芯片区域实现高位密度。在3D NAND闪存中,存储器单元作为垂直串连接而不是2D NAND中的水平串。 第一批3D Flash产品有24层。随着该技术的进步,已经制造出32,48,64甚至96层3D闪存。3D闪存的优势在于同一区域中的存储单元数量明显更多。这也使制造商能够使用更大的制程工艺节点来制造更可靠的闪存。 3D Flash的另一个主要技术转变是使用电荷阱Flash而不是浮栅晶体管。除了用氮化硅膜代替浮栅之外,电荷阱在结构上类似于FGMOS。注意,由于大规模制造的困难,电荷阱在市场上没有被广泛使用。由于难以制造浮栅晶体管的垂直串以及电荷阱的其他固有优点,已经采用电荷阱技术用于3D闪存。 与FGMOS相比,基于电荷阱的存储器有许多优点。可以在较低电压下编程和擦除基于电荷阱的存储器,从而提高耐用性。由于捕获层(氮化物)是绝缘层,电荷不会泄漏,从而提高了可靠性。由于电荷不会从电荷阱的一侧流到另一侧,因此可以在同一阱层存储多于一位的电荷。赛普拉斯(前Spansion)在NOR闪存中有效地利用了这种功能,称为MirrorBit技术,将两位数据存储在一个类似于MLC闪存的单个存储单元中。未来的趋势 所有主要的闪存制造商都积极致力于开发不同的方法,以降低每比特闪存的成本,同时正在积极研究增加3D NAND Flash中垂直层的数量。虽然15nm似乎是目前NAND闪存中最小的成功节点,但Flash的光刻节点的缩小仍在继续。将MLC和TLC技术与3D NAND闪存相结合的方法也正在积极探索当中,许多制造商已经看到了成功的曙光。随着新技术的出现,我们可能很快就会看到存储单元可以存储一个字节的数据和垂直层,达到256层,甚至更高
30-iFix团队10月26号现场培训课程分享(四)
前文说到CPU从Flash读取BootLoader到自身缓存里,然后把控制权交给BootLoader,我们来看看BootLoader的任务是什么?
1、启动操作系统内核;
2、部署整个操作系统;
3、硬件驱动程序;
4、实现人机控制台(维修中使用较多)。
上图为MTK的引导运行步骤图,不同的方案可能顺序不一样,但内容基本是一样的,维修中打印信息也是按照这个步骤来跑的,也就是说,查看故障打印信息,就是查看打印停止在哪一个节点,然后根据故障节点分析出故障部位。
启动操作系统内核:BootLoader负责初始化DDR,初始化Flash,然后将Linux内核从Flash读取到DDR中,然后启动Linux内核,Linux内核启动后,控制权移交给Linux内核,BootLoader就停止运行了,如果想要再次启动BootLoader,只有重新启动电源。
部署整个系统:Boot loader会先给linux内核准备一些启动参数放在内存中特定位置,然后传给内核,内核启动后会到这个特定位置去下载Boot loader传给他的参数,然后在内核中解析这些参数,这些参数将被用来指导linux内核的启动过程。
硬件驱动程序:BootLoader为了完成一些任务必须让相应的硬件工作。比如升级就要驱动Flash,升级时在显示屏上显示进度条就要有对应的屏信息,人机交互时就要驱动串口。网络功能就要驱动网卡。
人机控制台:BootLoader在运行过程中,可以执行其他任务,比如控制台下执行DDR检测,擦空,升级任务等,任务执行完后会回到BootLoader的命令行,可以继续执行BootLoader下的其他命令,但内核启动后,就不能执行BootLoader下的控制台命令了,这就是为什么我们要开机瞬间进入BootLoader的控制台,如果启动内核后进入的控制台,那就是安卓控制台,执行的就是另一个任务了。
Linux内核启动后,拿到控制权,它的终极任务就是启动整个系统,加载主程序,加载应用,最终启动整机系统界面。
早期的智能电视主板Flash一般为NOR Flash+NAND或NOR Flash+EMMC或单独NAND,后期的智能电视主板一般为单独的EMMC,由于NAND自身特性,系统故障率较高被各大厂家弃用,改为使用性能较稳定的EMMC。
下面我们先来掌握一些Nand Flash和EMMC相关的一些知识。
Nand Flash的位反转现象,主要是由以下一些原因/效应所导致:
1. 漂移效应:漂移效应指的是,Nand Flash中cell的电压值,慢慢地发生了变化,变的和原始值不一样了。
2.写入干扰所产生的错误:此现象有时候也叫做过度写入效应。对于某个页面的写入操作,使得对应的某个位的数据,产生了永久性的变化,即Nand Flash上这个位的值变了。
3.读操作干扰产生的错误:此效应是,对一个页进行数据读取操作,却引起非相关的其他的页面的某个位发生跳变。
如果只是对于单个位的跳变,也许问题看起来并不是很严重。然而,如果恰巧是某个重要文件的某位变化了,那么问题就严重了。
如果位反转,只是读取数据出来时候报告出来的位反转,那么很简单,只需要重新再去读取一次数据,即可解决此问题。
但是,如果是Nand Flash物理上的某个位真正的翻转了,那么需要通过对应的ECC校验去解决。
相对Nor Flash来说,Nand Flash中,位反转的现象,相对更加容易发生。因此,Nand Flash厂家都推荐在使用Nand Flash的时候,最好要应用ECC算法。
当Nand Flash应用于多媒体信息,比如存储音视频文件,那么位反转所造成的问题,并不严重。
当用于存储操作系统,配置文件和其他敏感信息的时候,必须要用ECC,以实现数据的校验,保证数据的正确性。
所以在实际维修中,iFix给出的建议是Nand Flash尽量用原型号,不要买某宝销售的残次品,读写时候保持引脚干净,引脚及芯片上的残留助焊剂必须彻底清洗并用风枪吹干。
EMMC实际上就是Nand Flash+控制器+标准接口。 EMMC由于其稳定的性能被各大厂家青睐,目前市面上EMMC封装有BGA221,BGA186/162,主要用于手机,BGA153/169用于电视机。
用于电视机的BGA153/169封装,规格有11.5X13mm、10X11mm、12X16mm、14X18mm(常用规格为11.5X13mm)。
常见品牌有:三星samsung,闪迪sandisk,金士顿Kingston,东芝Toshiba,创见transcend,海力士hynix,镁光micron。芯片容量也由512M-256G。
RT809H离线座支持169-FBGA封装所有规格的离线读写,不同的规格更换不同的限位框就行了。
下节精彩继续!
上节内容发完后看到后台留言,希望介绍一下Flash选择电路在哪?这里iFix君随便找了两个方案解答一下这个问题。
下图为MT5505的EMMC选择电路:
下图为MSD6A818的Flash选择电路:
以前Flash选择电路故障有一个维修实例,也一并分享出来。
机型:创维32E510
故障现象:不开机
检修过程:测量CPU启动条件基本都正常,测量EMMC供电正常,测量R237端为0.4,此端为EMMC/NAND选择端,正常为1.0V,测量R233和235连接端为3.0,说明此线路有漏电,为了一劳永逸,断开R235从R237处直接接一条线到主板1.2V,通电屏幕上方出现安全模式四个字。
重启电视,通电瞬间不听敲回车键进入控制台,串口控制台下敲命令safemode set off关闭,机器自动重启故障完全排除。
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