三星计划明年生产第9代V-NAND闪存:沿用双层堆栈架构,超300层
IT之家 8 月 18 日消息,据 DigiTimes 报道,三星电子计划明年生产第 9 代 V-NAND 闪存,将沿用双层堆栈架构,超过 300 层。
报道称,这将使三星的进度超过 SK 海力士 —— 后者计划 2025 年上半年量产三层堆栈架构的 321 层 NAND 闪存。早在 2020 年,三星就已首次引入双层堆栈架构,生产第 7 代 V-NAND 闪存芯片。
IT之家注:双层堆栈架构指在 300mm 晶圆上生产一个 3D NAND 堆栈,然后在第一个堆栈的基础上建立另一个堆栈 。
而三星即将生产的超 300 层第 9 代 V-NAND 将提高单个晶圆上生产的存储密度,这将有利于降低固态硬盘的成本。
作为竞争对手,SK 海力士的三层堆栈架构则是创建三组不同的 3D NAND 层 ,而这种做法将增加生产步骤和原材料的用量,目的是最大限度提高产量。
另据《首尔经济日报》报道,业界认为三星在推出第 9 代 3D NAND 之后,将有望在第 10 代 430 层的 3D NAND 中采取三层堆栈架构。该报援引业内人士称,若 3D NAND 层数超过 400,原材料用量和晶圆成本也会水涨船高,同时也会保证产量。
在去年 10 月举行的“2022 三星科技日”上,三星曾提出长期愿景:2030 年将层数提升至 1000 层 。
三星明年开始生产第9代V-NAND闪存:继续采用双堆栈架构,超过300层
三星去年末开始批量生产采用第8代V-NAND技术的产品,为1Tb(128GB)TLC 3D NAND闪存芯片,达到了236层,相比于2020年首次引入双堆栈架构的第7代V-NAND技术的176层有了大幅度的提高。据DigiTimes报道,三星准备明年开始生产第9代V-NAND技术的产品,将超过300层,继续沿用双堆栈架构。
所谓双堆栈架构,即在300mm晶圆上先生产一个3D NAND闪存堆栈,然后在原有基础上再构建另一个堆栈。超过300层的第9代V-NAND技术将提高300mm晶圆生产的存储密度,使得制造商能够生产更低成本的固态硬盘,或者让相同存储密度及性能的固态硬盘变得更便宜。
此前竞争对手SK海力士在美国圣克拉拉举行的2023闪存峰会(Flash Memory Summit 2023)上,首次展示了全球首款321层NAND闪存,成为了业界首家开发300层以上NAND闪存的公司。SK海力士透露,打算2025年上半年开始生产这款NAND闪存,采用的是三层堆叠方法。该工艺涉及创建三组不同的3D NAND层,将增加操作步骤和原材料的使用,但其目的是最大限度地提高产量,相比之下更容易生产3D NAND堆栈。
据了解,三星为了保证产量,可能会在第10代V-NAND技术上引入三堆栈架构,层数将达到430层。这意味着会增加原材料的使用量,并增加每个3D NAND晶圆的成本。去年三星在“Samsung Tech Day 2022”上提出的长期愿景是,到2030年会将层数提高至1000层。
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